[20p-B203-1~22] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B203-15] トリエチルガリウムおよびジエチルガリウムエトキシドをⅢ族原料に用いた
β-Ga₂O₃のMOVPE成長の比較

〇後藤 健¹、西村 太郎¹、外里 遥¹、池永 和正^1,2、佐々木 捷悟³、石川 真人⁴、町田 英明⁴、熊谷 義直^1,3 (1.東京農工大院工、2.大陽日酸(株)、3.東京農工大FLOuRISH、4.気相成長(株))

キーワード：酸化ガリウム、有機金属気相成長法、Ga前駆体