2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20p-C306-1~9] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2022年9月20日(火) 13:30 〜 15:45 C306 (C306)

浅田 聡志(電中研)

13:30 〜 13:45

[20p-C306-1] [分科内招待講演] CVD成長環境下におけるSiC微斜面への水素被覆の理論研究

木村 友哉1、長川 健太2、押山 淳2、白石 賢二2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード:SiC、CVD、エピタキシャル成長