2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

9 応用物性 » 9.3 ナノエレクトロニクス

[21a-A102-1~7] 9.3 ナノエレクトロニクス

2022年9月21日(水) 09:30 〜 11:15 A102 (A102)

大矢 剛嗣(横国大)

09:30 〜 09:45

[21a-A102-1] 熱酸化・スパッタ成膜SiO2上に形成した金属ナノドットアレイの特性

瘧師 貴幸1、天野 郁馬1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北大院情報)

キーワード:単電子デバイス、自己組織化ナノドットアレイ、コンダクタンス振動

本研究では金属薄膜の成長初期に形成される自己組織化ナノドットアレイを用いたマルチドット単電子デバイスを作製し、電気特性を評価した。その結果、ドットの下地層の表面状態(熱酸化およびスパッタ成膜SiO2)によりデバイスのコンダクタンスに数桁の差異が生じるものの、ナノドットアレイにおける単電子伝導発生のメカニズムは下地層(Fe核密度)に依らないということが示唆された。