2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-B204-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月21日(水) 09:00 〜 11:45 B204 (B204)

高 相圭(東理大)

09:30 〜 09:45

[21a-B204-3] プロトンドープEuNiO3薄膜を用いたReRAMのメモリ効果の評価

谷口 勇貴1、李 好博1、服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研)

キーワード:強相関電子系、イオントロニクス、抵抗変化型メモリ