2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-B204-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月21日(水) 09:00 〜 11:45 B204 (B204)

高 相圭(東理大)

10:30 〜 10:45

[21a-B204-6] Pt/Ti0.99Sc0.01O2-δ/Pt多層膜のキャリア密度と脳型的忘却特性の電流応答

〇(M2)谷口 充樹1、高田 文朝1、冨吉 希彩良1、谷古宇 海斗1、前川 愛里1、志賀 大亮2、組頭 広志2、樋口 透1 (1.東理大理、2.東北大)

キーワード:Pt/Sc-TiO2/Pt多層膜、忘却特性、脳型素子

パルス電圧印加によるイオンの移動を利用し、記憶の短期・長期特性を実現するデバイスが報告されている。また以前TiO2の利用により低電圧動作を実現したが、逆電圧印加による記憶消去については明らかでなかった。そこで本研究ではPt/Ti0.99Sc0.01O2-δ/Pt多層膜に対する逆電圧印加によって記憶消去の実現を目的とした。当日は種々の構造・電気特性の結果を踏まえ忘却特性のメカニズムについて報告する。