The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.2 Applications and technologies of electron beams

[21a-C306-1~10] 7.2 Applications and technologies of electron beams

Wed. Sep 21, 2022 9:00 AM - 11:45 AM C306 (C306)

Katsuhisa Murakami(AIST), Takafumi Ishida(Nagoya University)

11:00 AM - 11:15 AM

[21a-C306-8] Reexamination of electron emission under extremely low extraction biases

〇(M1)Yukino Inaba1, Sakura Kabeya1, Sakiho Morioka1, Ayaka Waki1, Mako Yoshida1, Yuuka Kunieda1, Eiji Rokuta1, Hidekazu Murata1 (1.Meijo Univ.)

Keywords:nano electron source, field emission, oxygen etching

タングステン針先を、原子レベルで先鋭化することができれば、さらに収束性の高い電子源として用いることが可能になる。近年、電界支援酸素エッチングにより先鋭化されたタングステン針から極低バイアス電子放出が報告された。そこで、我が研究室でもタングステン針に試料作製法である電界支援水エッチング及び酸素エッチングを実施して極低バイアス電子放出の再現を試みた。