2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[21a-M206-1~13] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:30 M206 (マルチメディアホール)

喜多 浩之(東大)

10:15 〜 10:30

[21a-M206-6] AC ゲートストレス印加による SiC-MOSFET のしきい値電圧変動評価

〇(M1)円城寺 佑哉1、岩室 憲幸1、矢野 裕司1 (1.筑波大)

キーワード:SiC、しきい値電圧変動、ACストレス

SiC-MOSFETは、SiO2/SiC界面に存在する多量の界面準位や酸化膜トラップの影響により起こるしきい値電圧変動(ΔVth)の抑制が課題である。特に、ACストレス印加時にみられる恒久的な変動メカニズムの詳細は未解明なため、その解明を目的として種々の条件でACストレス試験を行った。その結果、反転・蓄積を繰り返すバイポーラAC時に大きな正のΔVthが起こり、再結合量及び再結合回数がΔVthに大きな影響を与えていることを示した。