2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[21a-M206-1~13] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2022年9月21日(水) 09:00 〜 12:30 M206 (マルチメディアホール)

喜多 浩之(東大)

11:00 〜 11:15

[21a-M206-8] [講演奨励賞受賞記念講演] SiC (0001), (11-20), (1-100) MOSFETにおけるHall移動度のボディ層濃度依存性

伊藤 滉二1、田中 一1,2、堀田 昌宏1,3、須田 淳1,3、木本 恒暢1 (1.京大院工、2.阪大院工、3.名大院工)

キーワード:SiC、MOS、MOSFET