[21p-C106-1~11] 6.5 表面物理・真空

[21p-C106-9] 金属製膜後のTiO_x/SiO_y/結晶Siヘテロ構造のパッシベーション性能におけるLiF中間層の導入による影響

〇(M2)深谷 昌平¹、後藤 和泰¹、松井 卓矢²、齋 均²、黒川 康良¹、宇佐美 徳隆¹ (1.名大院工、2.産総研　GZR)

キーワード：界面、電子輸送層