[21p-C206-1~13] 7.1 X-ray technologies

[21p-C206-4] Correction of Coma Aberrations on High Magnification Objective for EUV Microscopy

〇Yusuke Tsukui¹, Shuntaro Waki¹, Mashine Iori¹, Jun Chen¹, Mitsunori Toyoda¹ (1.Tokyo Polytechnic Univ.)

Keywords:EUV

我々は、高倍率対物ミラーで生じる波面収差を0.1nm精度で計測するための点回折干渉計を開発してきた。前回の春季学術講演会では、照明光学系と瞳結像系で生じる波面収差を低減させ、干渉計の測定再現性をサブnm以下の精度にしたことを報告した(24a-E101-6)。本講演では、高精度波面計測法を援用した光軸調整よって、対物ミラーの姿勢誤差(偏心)によって生じる球面収差およびコマ収差を極小化させた結果について報告する。