09:30 〜 09:45
[22a-B102-3] MBE成長SnTe薄膜のZnTe層の導入による結晶性と表面状態の改善
キーワード:分子線エピタキシー法、SnTe、X線回折法
本研究では、結晶性の改善のためGaAs 基板上にバッファ層を成長し、その上にSnTe層を作製することを検討した。GaAsとSnTeの格子定数の中間にあり、Te系材料ということで今回はZnTeをバッファ層材料とすることとした。
一般セッション(口頭講演)
15 結晶工学 » 15.2 II-VI族結晶および多元系結晶
2022年9月22日(木) 09:00 〜 10:30 B102 (B102)
宇野 和行(和歌山大)
09:30 〜 09:45
キーワード:分子線エピタキシー法、SnTe、X線回折法