2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[22a-B204-1~11] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2022年9月22日(木) 09:00 〜 12:00 B204 (B204)

染谷 満(産総研)、細井 卓治(関学大)

10:00 〜 10:15

[22a-B204-5] 4H-SiCショットキー障壁ダイオードにおけるトンネル電流の理論解析

村上 勇徳1、永溝 幸周1、田中 一1、森 伸也1 (1.阪大院工)

キーワード:半導体、SiC