[22p-A202-1~22] 6.2 Carbon-based thin films

[22p-A202-1] Effects of Hydrogen and Argon Dilution on the Electrical Properties of Silicon and Nitrogen Doped Diamond-Like Carbon Films by Plasma-Enhanced CVD

〇Yuya Sasaki¹, Hiroya Osanai¹, Yuta Murono¹, Masayoshi Sato¹, Yasuyuki Kobayashi¹, Yoshiharu enta¹, Yushi Suzuki¹, Hideki Nakazawa¹ (1.Hriosaki Univ.)

Keywords:Diamond-Like Carbon, Plasma-Enhanced CVD

希釈ガスとしてH₂およびArを用いたプラズマCVD法によりSi-N-DLC膜を作製し、水素流量比[H₂/(H₂+Ar)]がSi-N-DLC膜の電気的特性に与える影響について調べた。Si-N-DLC/p型Siヘテロ接合の光照射下における開放電圧、短絡電流、フィルファクタ、変換効率を評価した。また、変換効率を向上させるためには、直列抵抗成分の低減が必要であることがわかった。