[22p-A202-1~22] 6.2 Carbon-based thin films

[22p-A202-4] Effect of Hydrogen on the Properties of Boron Carbide Films Prepared by Magnetron Sputtering

〇Tatsuya Nishida¹, Ryu Taniguchi¹, Masayoshi Sato¹, Yasuyuki Kobayashi¹, Yoshiharu Enta¹, Yushi Suzuki¹, Hirokazu Fukidome², Hideki Nakazawa¹ (1.Hirosaki Univ., 2.Tohoku Univ.)

Keywords:Boron Carbide

B₄Cターゲットを用いたマグネトロンスパッタ法により炭化ホウ素（B₄C）薄膜を作製し、Ar に対するH₂の流量比が膜特性に及ぼす影響を調べた。H₂流量比の増加と共に臨界荷重（付着力）は減少し、このとき内部応力と負の相関関係があることがわかった。またH₂流量比が増加すると、光学バンドギャップおよび比抵抗は増加した。これら諸特性と構造・化学結合状態との関連性を議論した。