2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[23a-B101-1~10] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:45 B101 (B101)

竹中 弘祐(阪大)、内田 儀一郎(名城大)

09:00 〜 09:15

[23a-B101-1] PTFE スパッタ膜のフリップフロップ特性と OH 基の関係

田口 貢士1、富川 弥奈1、箕浦 晧1、山原 基裕1、登尾 一幸1 (1.株式会社魁半導体)

キーワード:スパッタ、フリップフロップ、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)

フリップフロップ薄膜の物性と生成に於いて、OH基の物性の影響観察を行い、撥水時にターゲットPTFEにより近い接触角を持つ条件の制御を目指す。
スパッタ成膜に於いて、OH基を付加し、安定してフリップフロップする薄膜を生成した。
OH基の付加で、①撥水時の接触角制御、②フリップフロップ薄膜の物性への影響を及ぼすことが可能だと考える。フリップフロップ薄膜の物性変化、成膜条件を検討した詳細を発表にて議論する。