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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[23a-B101-1~10] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:45 B101 (B101)

竹中弘祐(阪大)、内田儀一郎(名城大)

11:00 〜 11:15

[23a-B101-8] ミストCVD法で合成した金属酸化物薄膜への大気圧プラズマによる後処理効果

〇(M2)小林滉弥¹、竹田圭吾¹、平松美根男¹ (1.名城大学)

キーワード：表面処理、大気圧プラズマ、ミストCVD