[23p-C102-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[23p-C102-5] 硬X線光電子分光法を用いたSiO₂/TiO_x/HfO₂ MIM構造における界面ダイポール変調の発生位置の特定

〇桐原 芳治¹、伊藤 俊一¹、保井 晃²、宮田 典幸³、野平 博司¹ (1.都市大、2.高輝度光科学研究センター、3.産総研)

キーワード：界面ダイポール、硬X線光電子分光法、MIM構造