[22p-P01-1~18] 3.12 Nanoscale optical science and near-field optics

[22p-P01-9] Evaluation of nano-disk/hole array composite structure using stencil lithography

〇KENZO YAMAGUCHI¹, Yuki Watanabe¹, Toshihiro Okamoto¹, Masanobu Haraguchi¹ (1.Tokushima Univ.)

Keywords:stencil lithography, nano-disk array, nano-hole array

プラズモニクスやメタマテリアルの分野では、金属の微細構造が不可欠で、電子線描画装置によるリフトオフ法や集束イオンビームによる直接微細加工が、作製精度や構造設計の自由度の観点からよく用いられる。ステンシルリソグラフィー法¹は、マスク蒸着であり、例えば、ナノサイズの孔の開いた基板をステンシルマスクとして用いれば、ステンシルと対となるナノディスク構造を1度に大面積に作製できる。これに、回転と勾配を組み合わせ、ナノディスクとホールの複合系素子の同時作製に成功し、従来のステンシルリソグラフィー法に設計の自由度をもたらした。本研究では、この形状変化の過程を評価し、本設計指針の作成を目的とした。