[22p-P01-1~18] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

[22p-P01-9] ステンシルリソグラフィー法に回転と勾配を組み合わせたナノディスク/ホールの複合系素子の構造評価

〇山口 堅三¹、渡邉 勇起¹、岡本 敏弘¹、原口 雅宣¹ (1.徳島大)

キーワード：ステンシルリソグラフィー、ナノディスクアレイ、ナノホールアレイ

プラズモニクスやメタマテリアルの分野では、金属の微細構造が不可欠で、電子線描画装置によるリフトオフ法や集束イオンビームによる直接微細加工が、作製精度や構造設計の自由度の観点からよく用いられる。ステンシルリソグラフィー法¹は、マスク蒸着であり、例えば、ナノサイズの孔の開いた基板をステンシルマスクとして用いれば、ステンシルと対となるナノディスク構造を1度に大面積に作製できる。これに、回転と勾配を組み合わせ、ナノディスクとホールの複合系素子の同時作製に成功し、従来のステンシルリソグラフィー法に設計の自由度をもたらした。本研究では、この形状変化の過程を評価し、本設計指針の作成を目的とした。