The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[24a-E103-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Thu. Mar 24, 2022 9:00 AM - 12:30 PM E103 (E103)

Kuniyuki Kakushima(Tokyo Tech), Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus)

10:15 AM - 10:30 AM

[24a-E103-6] Study of two-axes Piezo-resistive Accelerometer using Full Minimal-Fab Process

〇Hiroshige Kogayu1, Hiroyuki Tanaka2, Fumito Imura2, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST)

Keywords:MINIMAL, MEMS, Sensor

これまではピエゾ抵抗型1軸加速度センサについて検討を行なってきたが、次の段階としてフルミニマルプロセスによる2軸加速度センサの試作を行った。おもりにプローブによって強制変位を与える方法を用い梁上のピエゾ抵抗の変化を測定した。強制変位による力に対応した加速度をz軸、x軸独立に検出することができ、基本的な特性を取得した。