The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[24a-E103-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Thu. Mar 24, 2022 9:00 AM - 12:30 PM E103 (E103)

Kuniyuki Kakushima(Tokyo Tech), Tatsuya Okada(Univ. of the Ryukyus)

10:30 AM - 10:45 AM

[24a-E103-7] Individualization technology of Half-inch wafer

〇Takashi Yajima1, Fumito Imura1, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimalfab

ミニマルファブではΦ12.5mmのウエハをそのままパッケージする、前後工程統一システムを創出しているが、同じサイズの複数素子を個片化する場合もある。大口径ウエハでは、個片化をDBG(Dicing Before Grinding)プロセスで行った場合、ウエハ裏面のチッピングを小さくできるが、ミニマルDBG装置群を使用して、ウエハを個片化した場合でも、裏面のチッピングが大幅に改善されることが分かった。