[24p-E204-1~10] 6.2 Carbon-based thin films

[24p-E204-8] Formation of a-CNx:H thin films using microwave plasma CVD of the C₆H₆/N₂ gas mixture

〇(B)Hiroki Aoyama¹, Takai Tsubasa¹, Ito Haruhiko¹ (1.Nagaoka Univ of Tech)

Keywords:Carbon-based thin films

C₆H₆とN₂を原料としたマイクロ波プラズマCVDを用いてa-CN_x：H薄膜を生成して高窒素含有率を達成することを目的とし、C₆H₆、N₂のマイクロ波プラズマ生成物を基板上に堆積させて薄膜を生成してそれを構造解析することによって窒素含有率と膜の結合状態の分析および、N₂ガスの分圧を変化させてどの分圧条件で高窒素含有a-CN_x：H薄膜が生成するか検討した。