[25a-E104-1~10] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [25a-E104-2] A Comparative Study on Relationship between Mechanical and Electrical Property Change in Silicon Nitride Films Damaged by Plasma Exposure

〇Takahiro Goya¹, Tomohiro Kuyama^1,2, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ., 2.JSPS Research Fellow)

Keywords:plasma induced damage, mechanical property, silicon nitride

プラズマプロセス時に絶縁膜中に形成されるプラズマダメージはデバイス特性や信頼性に重大な影響を及ぼす．繰り返しナノインデンテーションはプラズマダメージによる機械特性変化の高精度な解析が期待されている一方で，従来の電気特性評価との相関に関する検討は十分でなかった．本研究では，プラズマ曝露前後でのシリコン窒化膜の機械特性変化と電気特性変化との相関を詳細に調べ，プラズマダメージの機構について議論する．