[25p-E104-1~21] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[25p-E104-4] 真空アーク蒸着によるTiN膜形成時におけるドロップレット付着の陰極からの距離依存性

〇税木 善則¹、鬼頭 純平¹、橋本 侑樹¹、坂東 隆宏¹、針谷 達¹、滝川 浩史¹、儀間 弘樹²、杉田 博昭² (1.豊橋技科大、2.オーエスジーコーティングサービス（株）)

キーワード：真空アーク蒸着法、ドロップレット、窒化チタン膜

産業の発展に伴い難削材の需要が高まっている。難削材の加工では工具に保護膜コーティングを施すことによって加工能率の向上や長寿命化が期待されている。本研究では真空アーク蒸着法を用いて陰極-基板間距離を変化させTiN膜を形成し，ドロップレットの距離依存性を調査した。陰極-基板間距離360 mmでは5 μm以上の大きなドロップレットはみられず数も陰極直下と比べ7割減少しており，良好な平滑性を持つ被膜が得られた。