[26a-F308-1~8] 7.2 Applications and technologies of electron beams

[26a-F308-4] Construction of an Electron Beam Induced Deposition System Using a Tabletop Scanning Electron Microscope

〇Shunsuke Kobayashi¹ (1.JFCC)

Keywords:SEM, Electron Beam Induced Deposition

電子線誘起蒸着法 (EBID：Electron Beam Induced Deposition) は基板上に供給される原料(前駆体)を電子ビームにより堆積させる方法である(Fig.1a)。この手法の最大の利点は、電子ビームを用いる走査電子顕微鏡 (SEM) などと組み合わせることでナノメートルスケールで任意の形状やサイズの物質堆積(成膜)ができることである。しかしならが、EBID法を行える装置は少なく、CVD法などとくらべ、広く普及した手法ではない。そこで、本研究では汎用性の高い卓上SEMを用いることで様々な物質を自由に堆積させることができるEBIDシステムの構築を行った。