11:15 〜 11:30 [15a-E402-9] 交互イオン堆積法を用いたCd フリー量子ドットのキャリア注入特性評価 〇北野 圭輔1、イ スンヒョク2、土江 貴洋1、岩田 昇1、和泉 真1、荒川 泰彦3、立間 徹2 (1.シャープ、2.東大生研、3.東大ナノ量子機構)