15:30 〜 15:45 [17p-A205-10] 反応層脱離工程に準安定状態のAr照射を用いたSiNサイクルエッチ 〇塩田 貴支1、佐竹 真1、岩瀬 拓1、園田 靖2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)