16:00 〜 16:15 △ [17p-A205-12] SiO2高アスペクト比加工におけるFCガス分子の構造と組成の影響 〇日和佐 登1、片岡 淳司1、笹尾 典克1、久保井 宗一1、飯野 大輝1、栗原 一彰1、福水 裕之1 (1.キオクシア)