2:15 PM - 2:30 PM
[15p-A408-6] Deposition of amorphous carbon nitride thin films by pressure-gradient RF magnetron sputtering
Keywords:amorphous, carbon nitride, spectroscopy
本研究では、窒素含有量とsp3C-N結合量の両方を同時に向上させることを目的に、スパッタターゲット近傍の窒素ガス圧を高めた、圧力勾配式反応性高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、アモルファス窒化炭素薄膜の作製を試み、その化学結合状態をX線光電子分光法(XPS)、軟X線発光分光法(SXES)、吸収端近傍X線吸収微細構造分光法(NEXAFS)を用いて解析した。