[15p-PA02-1~12] 8 Plasma Electronics (Poster)

[15p-PA02-2] Production of high-density hydrogen plasma by radio-frequency hybrid-discharge for thin film preparation

〇Yasunori Ohtsu¹, Tatsuo Tabaru² (1.Saga Univ., 2.AIST)

Keywords:hydrogen plasma, RF discharge, high-density plasma

水素プラズマは水素化アモルファスシリコン太陽電池、炭素系硬質膜、カーボンナノチューブやナノウォールなどの炭素ナノ構造体の合成に広く利用されている。それらの成膜プロセスでは、薄膜やナノ構造体の形成において、水素原子が非常に重要な役割を果たしている。それらの生産性を向上させるためには、高密度の水素原子生成、すなわち、水素分子から原子を高解離させるためには、電子密度の高密度化が必要不可欠である。本研究では、リング状ホロー溝を形成した電極を用いたCCPとヘリカルアンテナを用いたICPを混成する高周波ハイブリッド放電により水素プラズマの高密度化を図ることを目的とする。講演では、放電特性やプラズマ密度について報告する予定である。