PDF ダウンロード スケジュール 43 いいね! 0 コメント (0) 17:00 〜 17:15 [16p-A301-11] 4H-SiC(0001)へのAlチャネリングイオン注入に対する電子阻止断面積の再評価 〇望月 和浩1、西村 智朗1、三島 友義1 (1.法政大) キーワード:炭化珪素、アルミニウム、電子阻止断面積