[16p-B508-1~17] 13.3 Insulator technology

[16p-B508-13] Characterization of the multiple thin dielectric films in depth direction

〇Yusaku Tanahashi¹, Keiko Inoue¹, Hirofumi Seki¹ (1.Toray Research Center)

Keywords:dielectric films, Step etching, FT-IR

Si系半導体の多層化や薄膜化に伴い、成膜プロセスにおける精密な制御が不可欠になっており、極薄膜の膜質や原子レベルでの界面評価など深さ方向を高分解能で評価するニーズが高まっている。本講演では、SiN(5nm)/SiO2(5nm)の積層絶縁膜に対し、ステップエッチング前処理法とFT-IR測定を組み合わせ、主成分の結合情報のみならず官能基を含めた深さ方向の膜質評価例を報告する。