[17a-PA05-1~7] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[17a-PA05-6] Emergence of abnormal patterns in µ-PCD mapping for TNPCon samples

〇(D)Yuli Wen¹, Thi Cam Tu Huynh¹, Keisuke Ohdaira¹ (1.JAIST)

Keywords:MPCD measurement, ultra-thin silicon nitride, Evaluation of passivation

c-SiウェハーをCat-CVD装置で生成したNH_xラジカルに曝すことで極薄SiN_x膜を形成したTNPCon試料において、µ-PCD法でのτ_effマッピングを行うと、「＋」パターンの低τ_eff領域が出現する現象を確認した。この「＋」パターンは、µ-Si膜のP濃度が高ければ高いほど明瞭に観察された。µ-PCD測定で用いるマイクロ波がP拡散により形成されたn⁺-Si層に沿って伝搬して試料端まで到達して反射され、干渉が発生した結果現れたものと考えられる。