[17p-A205-1~18] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[17p-A205-1] Preparation of the gradient element with two-dimensional spatial distribution of elements using powder mixture targets

〇Hiroharu Kawasaki¹, Takahiko Satake^1,2, Shin-ichi Aoqui² (1.Nat,l Ins. Tech., Sasebo Col., 2.Sojo Univ.)

Keywords:Powder target, Gradient element functional thin film, Sputtering deposition

多穴型のターゲットホルダを作製し、それを用いて膜厚方向および平面方向に３次元的な空間分布を持つ傾斜機能性薄膜を１度のプロセスでできないか検討した。基板側に進むにつれてFe成分が多くなる傾斜機能成膜の作製に成功するとともに、空間分解能に問題は有るものの平面方向にも分布を持つ薄膜作製が可能となった。