2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[17p-A205-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2023年3月17日(金) 13:00 〜 17:45 A205 (6号館)

唐橋 一浩(阪大)、藤崎 寿美子(日立製作所)

13:45 〜 14:00

[17p-A205-4] プラズマ処理による表面改質特性の長期保持技術

田口 貢士1、山原 基裕1、富川 弥奈1、登尾 一幸1 (1.株式会社魁半導体)

キーワード:プラズマ、自己組織化単分子膜、親水

従来、SAM(Self-Assembled Monolayer ; 自己組織化単分子層)は、プラズマ等によりサンプル表面を活性化した後、主に湿式法により形成されていた。我々は、プラズマの応用技術により、短時間でSAMを形成し、表面改質特性の長期保持が可能な技術を開発した。