[17p-PB07-1~15] 15.4 III-V-group nitride crystals

[17p-PB07-9] Fabrication of needle shape MicroLED array using B ion implantation process

〇Ayumu Okui¹, Shotaro Nishigaki¹, Atsushi Nishikawa², Alexander Loesing², Hiroto Sekiguchi¹ (1.Toyohashi Tech, 2.ALLOS)

Keywords:ion implantation, MicroLED, isolation

神経ネットワークの細やかな制御のためには，5-20 µmのサイズをもつ神経細胞に個別にアクセスすることが求められる．そこでBイオン注入法を用いたGaN層の絶縁化によりマイクロLEDの高密度集積を検討した．まず，Bイオン注入の濃度と電気特性の関係性を調べ，GaN層の絶縁化条件を確認した．そして，この条件を基に針構造上に直径5 µmのマイクロLEDを作製し，5000個以上を発光させることに成功した．