2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.13 光制御デバイス・光ファイバー(旧3.14)

[18a-A202-1~8] 3.13 光制御デバイス・光ファイバー(旧3.14)

2023年3月18日(土) 09:00 〜 11:15 A202 (6号館)

荒川 太郎(横国大)、渡邉 俊夫(鹿児島大)

09:45 〜 10:00

[18a-A202-4] 厚膜シリコンフォトニクス偏波回転分離器の作製

鈴木 優斗1、小松 憲人1、宮野 広基1、田之村 亮汰1、加藤 豪作1、エルフィキ アブドラジズ1、種村 拓夫1、中野 義昭1 (1.東大院・工)

キーワード:厚膜シリコンフォトニクス、偏波回転分離器

厚膜シリコンフォトニクスはシリコンコア層が1 µm以上のSOI基板を用いた光集積回路プラットフォームであり,コア面積の大きさによる低損失性などに優れている一方で偏波制御素子が実用化されていないことが応用を制限していた.そこで著者らはこれまでにV溝導波路という新規構造を用いた偏波回転分離器を提案した.今回,V溝導波路の作製を実際に行い,作製誤差を許容範囲に収めた作製プロセスの確立に成功した.