2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[18a-A301-1~13] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2023年3月18日(土) 09:00 〜 12:30 A301 (6号館)

牧山 剛三(住友電工)

11:30 〜 11:45

[18a-A301-10] マイクロ波帯Hi-Lo型GaN IMPATTダイオードの設計および作製

川崎 晟也1、隈部 岳瑠1、出来 真斗1,2、渡邉 博崇3、田中 敦之3、本田 善央3、新井 学3、天野 浩2,3 (1.名大院工、2.名大VBL、3.名大未来研)

キーワード:GaN、インパットダイオード、マイクロ波発振器

マイクロ波帯GaN IMPATダイオードの発振効率改善に向けて,低入力域での効率改善が見込まれるHi-Lo型構造について検討した.動作周波数15 GHzのHi-Lo型GaN IMPATTダイオードを設計した.計算からは,従来を上回る効率が示され,高効率化が期待できることが分かった.実際に発振特性を評価した結果、1 W程度の出力を得るのに必要な入力が約1/3となり,低入力域での発振効率が大幅に改善された.