【若手・一般ポスター発表(ショート講演有)】プロセス・素材分野

[2K0409-18-04] （学生発表：修士課程） 液相還元法によるCuNWsの合成と還元速度の多段階制御による高アスペクト比化

○梅本 雄太¹、高橋 英志¹、横山 俊¹ (1. 東北大学)

司会：久保 裕也（福岡工業大学）

キーワード：銅、ナノワイヤ、液相、多段階制御

近年、透明導電膜の新たな材料として、銅ナノワイヤ(CuNWs)が注目を集めている。CuNWsを透明基板上に塗布し、CuNWs同士がネットワークを形成することで光が透過可能かつ導電な膜が形成される。この性能は塗布するCuNWsの形状に依存し、長さを直径の値で割ったアスペクト比が高いほど、高い性能を発現する。ナノワイヤの合成手法は多く存在するが、本研究室では水溶液中、80℃、温和な試薬を用いてCuNWsを合成する低環境負荷な合成法を開発している。しかし合成されたCuNWsのアスペクト比が低く改善が求められる。本ナノワイヤの成長機構の解析から、ナノワイヤの成長段階において過剰に銅原子が還元され、ワイヤ端面だけでなく、側面にも成長した結果、アスペクト比が小さくなることが判っている。そこで、本研究では成長段階において還元反応速度を反応温度の増加と減少によって多段階で制御し、側面成長を抑えたナノワイヤ成長を検討した。また直径抑制の後、連続した長さ方向への成長を銅源の溶液を追加することで試みた。