日本薬学会第140年会(京都)

講演情報

一般ポスター発表

(A) 化学系薬学

[28Q-am] 全合成②/反応③

2020年3月28日(土) 09:00 〜 11:30 [Q会場]ニューホール (1F)

09:00 〜 11:30

[28Q-am067S] 10-カンファースルホン酸を用いた温和な条件下でのPMB基の脱保護

○松村 美沙1、小寺 優吾1、川崎 尋子1、山上 典彦1、中村 光1、前川 智弘1 (1. 近畿大薬)

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