15:42 〜 15:54
[27S-pm12S] メチオニン残基選択的化学修飾法によるPRC2ヒストンメチル化能の制御
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講演情報
一般口頭発表
(A) 化学系薬学
[27S-pm] 構造活性相関②
2022年3月27日(日) 15:42 〜 16:54 [S会場] 会議室431 (4号館3階)
座長：平山 祐（岐阜薬大）