講演情報

Tweet

ポスターセッション

ポスターセッション » 一般ポスターセッション

一般ポスターセッション

2024年6月20日(木) 12:40 〜 13:20 一般ポスター会場(P1) (P会場)

[P-018] 無溶媒プロセスによる超高分子量ポリエチレンサブミクロン薄膜の創製

*撹上将規¹、原澤椋己¹、髙澤彩香¹、山延健¹、上原宏樹¹ (1. 群馬大学)

キーワード：超高分子量ポリエチレン、サブミクロン薄膜、溶融二軸延伸、無溶媒プロセス

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。