2023年電子情報通信学会ソサイエティ大会

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[C-3/4] 光エレクトロニクス/レーザ・量子エレクトロニクス

2023年9月13日(水) 13:00 〜 16:45 全学教育棟 本館 中棟 2階C25講義室

座長:藤澤剛(北大),庄司雄哉(東工大),藤方潤一(徳島大)

<19〜28>
光エレクトロニクス/レーザ・量子エレクトロニクス研専

[C-3/4-22] 超小型磁気光学デバイスに向けたコバルトアルミフェライト薄膜の特性評価

佐藤孝太郎, 庄司雄哉 (東工大)

この講演は本会「学術奨励賞受賞候補者」の資格対象です。

キーワード:光アイソレータ、磁気光学効果、コバルトフェライト

従来のバルク型光アイソレータに用いられる磁気光学(MO)材料にはYIGやCe:YIGなどのガーネットフェライト結晶が用いられているが,シリコンなど半導体基板上に直接成長することが困難であり,集積性に優れる導波路型光アイソレータ実現の障害となっている.そこで,本研究では新たなMO材料としてCoFe2O4に注目した。CoFe2O4の特性は組成や中間層,スパッタ条件を変えることで変化する. 今回,光損失の低減を目指し,CoFe2O4のFeを一部Alに置換したCoAlFeO4 (CAFO)の堆積を検討した.Si上に中間層MgO,ZnOを用いた場合とSi上に直接堆積した場合のそれぞれのCAFO膜について特性を評価した結果を報告する.

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