First LSI Applicable Thin SOI Films Formed by Lateral Solid Phase Epitaxy

2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

2009年10月6日〜 2009年10月9日
Sendai Kokusai Hotel, Miyagi, Japan

H. Ishida¹、F. Aiso¹、M. Mizukami¹、K. Nishihara¹、T. Iguchi¹、D. Ichinose¹、A. Fukumoto¹、T. Suzuki¹、F. Arai¹、I. Mizushima¹ (1.Toshiba Corp.)