Nanoscale Characterization of HfO<sub>2</sub>/SiO<sub>x</sub> Gate Stack Degradation by Scanning Tunneling Microscopy

2009 International Conference on Solid State Devices and Materials

2009年10月6日〜 2009年10月9日
Sendai Kokusai Hotel, Miyagi, Japan

K. S. Yew¹、Y. C. Ong¹、D. S. Ang¹、K. L. Pey¹、G. Bersuker²、P. S. Lysaght²、D. Heh² (1.Nanyang Tech. Univ.(Singapore)、2.SEMATECH(USA))