[2B3-505-07] レジスト除去、エッチング、洗浄

[2B3-505] 基板バイアス機構を有するマイクロ波励起水蒸気プラズマによるイオン注入レジストの高速アッシング

*相澤 洸^1,2、櫻井 匡¹、榧森 悠介¹、Nyar Paing Khant¹、中野 裕介¹、田中 康規¹、石島 達夫¹ (1. 金沢大学、2. （株）米倉製作所)