The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology

講演情報

一般講演

[2B3-505-07] レジスト除去、エッチング、洗浄

2022年6月29日(水) 14:40 〜 15:50 レジスト除去、エッチング、洗浄 (B3-5)

座長:神村 共住(大阪工業大学)、堀邊 英夫(大阪公立大学)

14:40 〜 15:00

[2B3-505] 基板バイアス機構を有するマイクロ波励起水蒸気プラズマによるイオン注入レジストの高速アッシング

*相澤 洸1,2、櫻井 匡1、榧森 悠介1、Nyar Paing Khant1、中野 裕介1、田中 康規1、石島 達夫1 (1. 金沢大学、2. (株)米倉製作所)