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一般セッション(口頭講演)

15．結晶工学 » 15.6 IV族系化合物

[17a-B3-1~11] 15.6 IV族系化合物

2013年9月17日(火) 09:00 〜 12:00 B3 (TC2 1F-105)

11:00 〜 11:15

▼ [17a-B3-8] Diffusivity of Mobile Ions Inherent to Thermal SiO₂/SiC Structures in Deposited SiO₂ Gate Dielectrics

^○（D）Atthawut Chanthaphan¹，中野佑紀²，中村孝²，細井卓治¹，志村考功¹，渡部平司¹ (阪大院工¹，ローム²)

キーワード：mobile ion,BTI,MOS