2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[19p-B4-1~21] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月19日(木) 13:30 〜 19:00 B4 (TC2 1F-106)

17:30 〜 17:45

[19p-B4-16] O2混合Arスパッタにより成膜したSiO2膜の電気特性評価

井村公彦,岡田竜弥,杉原弘也,下田清治,野口隆 (琉球大)

キーワード:SiO2膜