[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-8] 酸化・還元アニールによる多結晶HfO₂膜の電気的特性変化 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○門馬久典，蓮沼隆，山部紀久夫 (筑波大　数理物質科学)

キーワード：多結晶HfO2